專注技術,崇尚品質
Concentrate on Technology , Aim to High Quality
QUALITY
量測設備和型號: 基恩士 VR6200
檢測精度: ±0.001mm
設備用途:非接觸式地測量物體表面的三維形貌、粗糙度、形狀輪廓、平面度
量測設備和型號: 基恩士 LM-X100L
檢測精度: ±0.0007mm
設備用途:工業自動化領域的尺寸和形位公差測量。
量測設備和型號: 日立 TM4000Plus
檢測精度: x10-x100000/5nm
設備用途:進行高倍觀察、產品表征和成分分析,特別適合需要快速、簡便操作的日常檢測
量測設備和型號: 基恩士 VHX-2500R
檢測精度: ±0.001mm
設備用途:高精度觀察、分析和測量微小物體的表面形貌與結構細節
量測設備和型號: 島津 EDX-LE-Plus
檢測精度: ±140ppm
設備用途:用于RoHS/ELV等法規限制的有害元素篩選分析
量測設備和型號: 三豐 SJ-410
檢測精度: ±3%
設備用途:用于檢測金屬等硬質表面的微觀形貌、粗糙度測量
量測設備和型號: 三豐 QV-X404T1L-C
檢測精度: 1.5um+2L/1000
設備用途:核心用途聚焦于精密零件的尺寸與形位公差測量
量測設備和型號: 日立 EC-16MHHP
檢測精度: ±0.3℃±2.5%RH
設備用途:用于實驗室環境模擬,測試材料或產品在特定溫濕度條件下的性能穩定性
量測設備和型號: 尼康 VMZR-3020
檢測精度: 1.2um+4L/1000
設備用途:用于工業精密制造中的非接觸式三維尺寸檢測
量測設備和型號: 三豐 XHVT-1000
檢測精度: ±0.025μm
設備用途:用于測量金屬材料的硬度,特別適用于滲碳層、熱處理薄片等精密部件的硬度測試
量測設備和型號: 標旗 Sphere-3000-∥
檢測精度: ±0.1%以下(380nm~410nm)
±0.05%以下(410nm~900nm)
設備用途:測量各類光學元件的反射率及透過率光譜寸檢測
量測設備和型號: 強力 TM-901EXP
檢測精度: ±(3%of rdg +5digit)
設備用途:測量機械加工后工件的殘留磁力
量測設備和型號: 尼康 MS-12C
檢測精度: ±0.001mm
設備用途:進行高精度的高度及深度測量
量測設備和型號:奧林巴斯 USPM-RU-W
檢測精度: ±0.1%(380 nm~410 nm)
±0.01%(410 nm~700 nm)
設備用途:高速、高精度地測量微小區域或曲面樣品的反射率、顏色
量測設備和型號: 川嘉 CJ-HLC300
檢測精度: ±5%
設備用途:測量潔凈環境中單位體積內塵埃粒子數和粒徑分布
量測設備和型號:金河源 JHY-5000
檢測精度: ±1%
設備用途:對各種材料進行拉伸、壓縮、彎曲、剪切、剝離、撕裂等力學性能測試